用于表面相互作用測(cè)量和光學(xué)/干涉測(cè)量技術(shù)的超光滑化學(xué)功能硅表面。 H. Dobbs, Y. Kaufman, J. Scott, K. Kristiansen, A. Schrader, S. Chen, P. Duda III, J. Israelachvili. 先進(jìn)工程材料 (2018) 20 (2), 1700630.

表面力裝置(SFA)技術(shù)的最新進(jìn)展。 J.以色列,Y。明,我。阿克布盧特我是阿利格。卡佛。格林,K。克里斯蒂安森。邁耶,不。佩斯卡,凱。羅森博格和H。曾先生, 報(bào)告 (2010) 73, 1-16.

表面之間的粘附力和短程力:用于測(cè)量表面力的新設(shè)備[SFA3]。 J.N.以色列切維利和P.M.麥基根, J. Mater. Res. (1990) 5, 2223.

利用多重光束干涉法研究薄膜。 J. Israelachvili, J. Colloid Int. Sci. (1973) 44, 259.

利用費(fèi)科光學(xué)成像表面的光學(xué)裝置。直接光學(xué)觀察是一個(gè)簡(jiǎn)單的選擇,其他類型的顯微鏡和光譜儀(包括X光、紅外和熒光)也是如此。

擴(kuò)展的表面力裝置.第三編高速干涉距離測(cè)量。 扎奇先生。、J.萬(wàn)尼克,還有M。休伯格, 審查科學(xué)儀器 . (2003) 74 (1) 260-266.

用白光干涉法在反射中擴(kuò)展表面力裝置的能力。 Connor, J.N. and R.G. Horn, 審查科學(xué)儀器 (2003) 74 (11) 4601-4606.

表面力裝置中多束干涉測(cè)量的地形信息。 M.休伯格,G。盧恩戈。以色列 朗米爾 (1997) 13, 3839–3848.

電化學(xué)表面力裝置:表面粗糙度、靜電表面電位和陽(yáng)極氧化物生長(zhǎng)對(duì)水溶液中不同表面相互作用力和摩擦力的影響。 巴爾提納,馬庫(kù)斯;班基,澤維爾;克里斯蒂安森,凱;格林,喬治;以色列,雅各布。 朗米爾 (2012) 28 (36) 13080–13093.

界面力與電化學(xué)反應(yīng)的交叉。 雅各布·恩。凱·克里斯蒂安森,馬太福音。蓋比,李東武,斯蒂芬。多納爾德松。,薩勒巴,邁克爾五世。拉普,澤維爾·班奎伊,馬庫(kù)斯·瓦爾提納,景羽, Jpcb (2013) 177 (51) 16369?16387.

表面干涉與明確的地形在SFA。 古普塔·拉普·弗雷謝特, J. Colloid. & Interf. Sci. , (2013), 412, 82-88.

水介質(zhì)中聚合物表面啟動(dòng)的自愈合。 B.安高寶,李東武,雅各布。以色列司法部赫伯特·維特, 自然材料 (2014) 13 867-872.

干涉法分析受限流體的折射率分布。 丹尼爾。基恩和托尼婭。庫(kù)爾, 分析化學(xué)。 , (2014), 86, 11860-11867.

實(shí)時(shí)MBI顯示在濕度選擇/解吸作用下金屬有機(jī)框架的復(fù)雜變形。 特奧多羅斯·班波斯,佛祖拉特納·施雷莎,胡慶運(yùn),喬治·根切夫,馬庫(kù)斯·巴爾蒂納, J. Phys. Chem. (2015), 119, 16769-16776.

用MBI法實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鋁裂紋腐蝕情況及其抑制作用。 佛祖拉特納施雷莎,胡慶運(yùn),特奧多羅斯拜姆波薩,凱克里斯蒂安森,雅各布N。以色列,和馬庫(kù)斯, J. Electrochem. Soc. (2015) 162 (7) C327-C332.8